硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）
ZnSe 廣泛用于紅外元件、窗口和透鏡以及光譜 ATR 棱鏡。硒化鋅是 10.6 微米 CO2 激光光學(xué)器件的Shou選材料之一。
ZnSe（硒化鋅）化學(xué)氣相沉積（CVD）材料是由鋅蒸氣和H2Se氣體合成而成的，在石墨基座上形成片狀（ZnSe-CVD工藝）。CVD-ZnSe的化學(xué)純度為99.999％。

產(chǎn)品型號(hào)：ZNSE25.4LENS500AR

更新時(shí)間：2025-01-14

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

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光學(xué)無源器件

包層光剝離器(CPS) 色散補(bǔ)償模塊及跳線濾波片/濾光片光環(huán)形器其他光學(xué)無源器件光束整形變形鏡螺旋相位板光衰減器延遲線濾波器/標(biāo)準(zhǔn)具光纖耦合器非線性模塊/倍頻/波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換光隔離器/光旋轉(zhuǎn)器/旋轉(zhuǎn)鏡光柵微透鏡陣列色散勻化片偏振器件/偏振測(cè)量調(diào)制反射鏡晶體/棱鏡/窗片透鏡、準(zhǔn)直器分光鏡分束合束器波分復(fù)用

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硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）

ZnSe 廣泛用于紅外元件、窗口和透鏡以及光譜 ATR 棱鏡。硒化鋅是 10.6 微米 CO2 激光光學(xué)器件的Shou選材料之一。

ZnSe（硒化鋅）化學(xué)氣相沉積（CVD）材料是由鋅蒸氣和H2Se氣體合成而成的，在石墨基座上形成片狀（ZnSe-CVD工藝）。CVD-ZnSe的化學(xué)純度為99.999％。它具有多晶結(jié)構(gòu)?？刂莆\CVD材料的晶粒尺寸以產(chǎn)生Max. 的強(qiáng)度和可加工性。

ZnSe 在紅外元器件窗片透鏡以及光譜分析ATR 棱鏡領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。硒化鋅(Zinc Selenide)對(duì)于CO2激光器的元器件也是一種良好的選擇。在CO2激光器工作的波段10.6 microns附近有著良好的透射率。硒化鋅材料是一種黃色透明的多晶材料, 結(jié)晶顆粒大小約為70μm, 透光范圍0.5-15μm。由化學(xué)氣相沉積(CVD)方法合成的基本不存在雜質(zhì)吸收, 散射損失極低。由于對(duì)10.6μm波長(zhǎng)光的吸收很小, 因此成為制作高功率CO2激光器系統(tǒng)中光學(xué)器件的優(yōu)選材料。此外在其整個(gè)透光波段內(nèi), 也是在不同光學(xué)系統(tǒng)中所普遍使用的材料。硒化鋅材料對(duì)熱沖擊具有很高的承受能力, 使它成為高功率CO2激光器系統(tǒng)中的優(yōu)秀光學(xué)材料。硬度只是多光譜級(jí)ZnS的2/3, 材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕, 而且材料折射率較大, 所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護(hù)并獲得較高的透過率。在其常用光譜范圍內(nèi), 散射很低。在用做高功率激光器件時(shí), 需要嚴(yán)格控制材料的體吸收和內(nèi)部結(jié)構(gòu)缺陷, 并采用Min. 破壞程度的拋光技術(shù)和zui高光學(xué)質(zhì)量的鍍膜工藝。

硒化鋅ZnSe中紅外平凸透鏡 (AR/AR涂層焦距500mm)（透鏡、準(zhǔn)直器）

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